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Capítulo 16 Spray Pyrolysis descriptiva de prototipo para la generación de películas delgadas de semiconduct Capítulo 16 Spray Pyrolysis descriptiva de prototipo para la generación de películas delgadas de semiconductores

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Título del capítulo:Spray Pyrolysis descriptiva de prototipo para la generación de películas delgadas de semiconductores

 

Autoras:Erick del Jesús Tamayo Loeza, Ramón Salvador Mézquita Martínez, Iván de Jesús May Cen, Irving Metelin Rosado, Gerardo M. Alonzo Medina y Gaspar Eduardo Martin Pat

 

Libro: Gestión del Conocimiento. Perspectiva Multidisciplinaria (Libro 61)

 

Resumen:En el siguiente trabajo propone el diseño y construcción de un sistema de depósito de películas delgadas semiconductoras. El sistema está contemplado para que opere por medio de la técnica de espray pirólisis permitiendo depositar diferentes tipos de materiales semiconductores (binarios, ternarios o cuaternarios) con una amplia gama de propiedades físicas y mecánicas que pudiera ser aprovechada en la industria fotovoltaica.Como resultado de este trabajo se obtuvo un prototipo capaz de calentarse hasta 700 grados centígrados con una temperatura de trabajo de 400 grados, con una alimentación 110 v ac, con una base calefactora giratoria y sistema de control electrónico para la selección de las revoluciones por minuto y temperatura.

 

 

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